IXRF磁控離子濺射儀MSP-mini的特點

IXRF磁控離子濺射儀MSP-mini的特點

IXRF磁控離子濺射儀MSP-2S/MSP-Mini利用磁控電極在低電壓下對樣品濺射金屬靶材，為SEM樣品表面噴鍍金屬鍍層，方便電鏡觀察，而MSP-mini是一款體積小巧，操作簡便，無需通入特殊氣體，使用時只需設置噴鍍時間即可。

主要特點：
1. 陽極磁控型靶材水平裝入：極低的放電電壓減弱樣品受到的例子損傷和熱損傷；
2. 浮動樣品臺設計：使電流不通過樣品，溫度上升很少，同時減弱離子碰撞引起的損傷；
3. 操作簡便：通過定時器控制從真空排氣到啟動放電電壓的整個過程。
應用領域：
離子濺射儀在掃描電鏡中應用十分廣泛，通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導電樣品的荷電現象，并提高觀測效率，另外可以使用噴碳附件對樣品進行蒸碳，實現不導電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。

一鍵自動鍍膜。沒有麻煩的操作。高性價比機器。它是MSP-1S的弟弟。
使用小目標（φ30mm）。實現低運行成本。Au 靶作為標準包含在內。展示其在桌面 SEM 預處理方面的能力。
可選的目標Ag膜具有優異的光澤度，便于透明材料表面的光學顯微鏡觀察。
概述
本設備是一種帶磁控靶的金屬鍍膜設備。當用光學顯微鏡（Ag 靶）觀察透明材料的表面或用電子顯微鏡（Au/Ag 靶）在少量樣品上涂導電膜時使用。